I kēia manawa, kokoke i nā pahu keleawe kiʻekiʻe ultra-high purity metala keleawe i koi ʻia e ka ʻoihana IC e monopoli ʻia e kekahi mau hui multinational nui.ʻO nā pahu keleawe ultrapure āpau e pono ai e ka ʻoihana IC home pono e lawe ʻia mai, ʻaʻole ia he pipiʻi wale nō, akā paʻakikī hoʻi i nā kaʻina hana lawe mai No laila, pono nui ʻo Kina e hoʻomaikaʻi i ka hoʻomohala ʻana a me ka hōʻoia ʻana o ka ultra-high purity (6N) copper sputtering targets. .E nānā kākou i nā mea nui a me nā pilikia i ka hoʻomohala ʻana i nā pahu hoʻoheheʻe keleawe kiʻekiʻe kiʻekiʻe (6N).
1、Hoʻomohala ʻana i nā mea hoʻomaʻemaʻe kiʻekiʻe kiʻekiʻe
ʻO ka ʻenehana hoʻomaʻemaʻe o nā metala Cu, Al a me Ta maʻemaʻe kiʻekiʻe ma Kina kahi mamao loa mai kēlā me nā ʻāina i kūkulu ʻia.I kēia manawa, ʻo ka hapa nui o nā metala maʻemaʻe kiʻekiʻe i hiki ke hāʻawi ʻia ʻaʻole hiki ke hoʻokō i nā koi o nā kaʻa i hoʻohui ʻia no ka sputtering targets e like me nā kaʻina hana loiloi kumu a pau i ka ʻoihana.He kiʻekiʻe loa ka helu o nā hoʻokomo i loko o ka pahuhopu a i ʻole ka māhele like ʻole.Hoʻokumu pinepine ʻia nā ʻāpana ma luna o ka wafer i ka wā sputtering, e hopena i ka pōkole pōkole a i ʻole ke kaapuni wehe o interconnect, e hoʻopilikia nui i ka hana o ke kiʻiʻoniʻoni.
2、Ke hoʻomohala ʻana i ka ʻenehana hoʻomākaukau ʻana i ke keleawe sputtering
ʻO ka hoʻomohala ʻana i ka ʻenehana hoʻomākaukau ʻana i ka copper sputtering target hoʻomākaukau nui e kālele ana i ʻekolu mau ʻano: ka nui o ka palaoa, ka mana o ka hoʻonohonoho ʻana a me ka kūlike.Loaʻa i ka ʻoihana semiconductor nā koi kiʻekiʻe loa no ka sputtering targets a me ka evaporating maka.Loaʻa iā ia nā koi koʻikoʻi no ka mālama ʻana i ka nui o ka ʻili o ka ʻili a me ke ʻano aniani o ka pahuhopu.Pono e hoʻomaluʻia ka nui o ka hua i ka 100μ M ma lalo, no laila, ʻo ka mana o ka nui o ka palaoa a me ke ʻano o ka hoʻopili ʻana a me ka ʻike ʻana he mea nui loa ia no ka hoʻomohala ʻana i nā pahu metala.
3、Hoʻomohala ʻana i ka nānā ʻana a mehoao ana ʻenehana
ʻO ka hoʻomaʻemaʻe kiʻekiʻe o ka pahuhopu ke ʻano o ka hoʻemi ʻana i nā haumia.I ka wā ma mua, ua hoʻohana ʻia ka plasma inductively coupled (ICP) a me atomic absorption spectrometry no ka hoʻoholo ʻana i nā haumia, akā i nā makahiki i hala iho nei, ua hoʻohana mālie ʻia ka nānā ʻana i ka maikaʻi o ka glow discharge quality (GDMS) me ka naʻau kiʻekiʻe. ʻano hana.Hoʻohana nui ʻia ke ʻano hoʻohālikelike koena RRR no ka hoʻoholo ʻana i ka maʻemaʻe uila.ʻO kāna kumu hoʻoholo e loiloi i ka maʻemaʻe o ka metala kumu ma ke ana ʻana i ke kiʻekiʻe o ka hoʻopuehu uila o nā haumia.No ka mea e ana i ke kū'ē i ka lumi wela a me ka haʻahaʻa haʻahaʻa, maʻalahi ke lawe i ka helu.I nā makahiki i hala iho nei, i mea e ʻimi ai i ke ʻano o nā metala, ʻoi aku ka ikaika o ka noiʻi ʻana i ka maʻemaʻe ultra-high.I kēia hihia, ʻo ka waiwai RRR ke ala maikaʻi loa e loiloi ai i ka maʻemaʻe.
Ka manawa hoʻouna: Mei-06-2022