ʻO ka ʻokoʻa ma waena o ka uhi hoʻoheheʻe a me ka uhi sputtering

E like me kā mākou e ʻike ai, hoʻohana maʻamau ʻia ka hoʻoheheʻe ʻana a me ka ion sputtering i ka uhi ʻana.He aha ka ʻokoʻa ma waena o ka uhi evaporation a me ka uhi sputtering?Ma hope aʻe, e kaʻana like nā loea loea mai RSM iā mākou.

ʻO ka uhi hoʻoheheʻe ʻana ka mea e wela ai ka mea e hoʻoheheʻe ʻia i kekahi mahana ma o ke ʻano o ka hoʻomehana ʻana a i ʻole ka uila uila a me ka hoʻoheheʻe ʻana i ka laser i loko o kahi kaiapuni me kahi degere ʻaʻole i emi iho ma mua o 10-2Pa, i hiki ai i ka ikaika haʻalulu wela o nā molekala a i ʻole. ʻOi aku ka nui o nā ʻātoma i loko o ka mea i ka ikehu hoʻopaʻa ʻana o ka ʻili, no laila ka nui o nā molekala a i ʻole nā ​​mana e hoʻoheheʻe ʻia a sublimate, a hoʻokahe pololei i ka substrate e hana i kahi kiʻiʻoniʻoni.Hoʻohana ka Ion sputtering coating i ka neʻe kiʻekiʻe o ka neʻe ʻana o nā ion maikaʻi i hana ʻia e ka hoʻokuʻu ʻana o ke kinoea ma lalo o ka hana a ke kahua uila e hoʻopā i ka pahu hopu e like me ka cathode, i pakele ai nā ʻātoma a i ʻole nā ​​molekole i loko o ka pahu hopu a hoʻoheheʻe ʻia i ka ʻili o ka mea hana plated e hana ai. ka kiʻiʻoniʻoni i makemake ʻia.

ʻO ke ʻano maʻamau i hoʻohana ʻia o ka uhi ʻana o ka vacuum evaporation ʻo ia ka hoʻomehana kūpaʻa, nona nā mea maikaʻi o ke ʻano maʻalahi, ke kumu kūʻai haʻahaʻa a me ka hana maʻalahi;ʻO ka hemahema, ʻaʻole kūpono ia no nā metala refractory a me nā mea dielectric kūpaʻa kiʻekiʻe.Hiki i ka hoʻomehana uila uila a me ka hoʻomehana laser ke lanakila i nā hemahema o ka hoʻomehana kū'ē.I ka hoʻomehana uila electron, ua hoʻohana ʻia ka kukuna electron i hoʻopaʻa ʻia e hoʻomaʻamaʻa pololei i ka mea i hoʻopaʻa ʻia, a lilo ka ikehu kinetic o ke kukuna electron i ikehu wela, kahi e hoʻoheheʻe ai ka mea.Hoʻohana ka hoʻomehana laser i ka laser mana kiʻekiʻe e like me ke kumu hoʻomehana, akā ma muli o ke kumukūʻai kiʻekiʻe o ka laser mana kiʻekiʻe, hiki ke hoʻohana wale ʻia i loko o kekahi mau hale noiʻi noiʻi i kēia manawa.

He ʻokoʻa ka ʻenehana sputtering mai ka ʻenehana hoʻoheheʻe ʻana i ka ʻenekini.ʻO ka "Sputtering" e pili ana i ka hanana i hoʻopaʻa ʻia i nā ʻāpana i hoʻopaʻa ʻia i ka ʻili paʻa (pahu) a hana i nā ʻātoma paʻa a i ʻole nā ​​molekole e pana mai ka ʻili.Aia ka hapa nui o nā ʻāpana i hoʻokuʻu ʻia ma ke ʻano atomic, i kapa pinepine ʻia ʻo sputtered atoms.ʻO nā ʻāpana sputtered i hoʻohana ʻia no ka pana ʻana i ka pahu hopu hiki ke lilo i electrons, ion a i ʻole nā ​​mea kūʻokoʻa.Ma muli o ka maʻalahi o nā ion i ka wikiwiki ma lalo o ke kahua uila no ka loaʻa ʻana o ka ikehu kinetic i koi ʻia, hoʻohana ka hapa nui o lākou i nā ion e like me nā mea i hoʻopā ʻia.Hoʻokumu ʻia ke kaʻina sputtering ma luna o ka hoʻokuʻu ʻana, ʻo ia hoʻi, hele mai nā ion sputtering mai ka hoʻokuʻu kinoea.Hoʻohana ʻia nā ʻenehana sputtering ʻokoʻa i nā ʻano hoʻoheheʻe kukui ʻokoʻa.Hoʻohana ʻo DC diode sputtering i ka hoʻokuʻu kukui DC;ʻO ka triode sputtering kahi hoʻoheheʻe ʻana i kākoʻo ʻia e ka cathode wela;Hoʻohana ka RF sputtering i ka RF glow discharge;ʻO ka hoʻoheheʻe ʻana o Magnetron he mea hoʻoheheʻe ʻia i hoʻomalu ʻia e kahi māla magnetic annular.

Ke hoʻohālikelike ʻia me ka uhi ʻana o ka evaporation, ʻoi aku ka maikaʻi o ka sputtering coating.No ka laʻana, hiki ke sputtered kekahi mea, ʻoi aku ka nui o nā mea a me nā pūhui me ka helu heheʻe kiʻekiʻe a me ke kaomi mahu haʻahaʻa;He maikaʻi ka hoʻopili ʻana ma waena o ke kiʻiʻoniʻoni sputtered a me ka substrate;Kiʻiʻoniʻoni kiʻekiʻe;Hiki ke mālama ʻia ka mānoanoa kiʻiʻoniʻoni a maikaʻi ka hana hou ʻana.ʻO ka hemahema ʻo ia ka paʻakikī o nā mea hana a koi i nā mea uila kiʻekiʻe.

Eia kekahi, ʻo ka hui pū ʻana o ke ʻano evaporation a me ke ʻano sputtering he ion plating.ʻO nā mea maikaʻi o kēia ʻano, ʻo ia ka mea i loaʻa i ka kiʻiʻoniʻoni i hoʻopili ikaika me ka substrate, kiʻekiʻe deposition rate a kiʻekiʻe kiʻekiʻe kiʻiʻoniʻoni.